Картинка
Новини Про Інститут Наукова діяльність Структура Аспірантура Закупівлі Контакти Конференції ІПФ Профспілка



Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів

Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.

Опис

 


Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014

Останні новини

Різне

Щиро вітаємо лаурeатів премії Президента України для молодих учених 2020 р. к.ф.-м.н. Щокотову Ольгу та к.ф.-м.н. Баштову Анну. Детальніше ...

Конкурси

Конкурс українсько-китайських науково-дослідних проєктів на 2021-2022 роки Кінцевий термін подачі документів: 28.02.2021 Детальніше ...

Конкурс науково-технічних проектів за Програмою інформатизації НАН України на 2021 рік Кінцевий термін подачі документів: 11.02.2021 Детальніше ...

Конкурс проєктів з виконання завдань Цільової програми наукових досліджень НАН України «Математичне моделювання у міждисциплінарних дослідженнях процесів і систем на основі інтелектуальних суперкомп’ютерних, грід- і хмарних технологій» на 2021–2025 рр. Кінцевий термін подачі документів: 16.02.2021 Детальніше ...