Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалівКомплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.
Опис Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014
|
Останні новини РізнеПостанова № 7 від 08.01.2025 "Про директора Інституту прикладної фізики Національної академії наук України" Детальніше ... Відкрита лекція: "Особливості програмування на квантових комп'ютерах та застосування квантових обчислень" Детальніше ... Інститут прикладної фізики НАН України проходить акредитацію освітньо-наукової програми «Фізика» експертами Національного агентства із забезпечення якості вищої освіти (НАЗЯВО). У рамках процедури акредитації відбудеться відкрита зустріч, де всі охочі можуть поставити запитання експертам та висловити свою думку щодо якості освітньої програми. Детальніше ... Науковий семінар відділу квантової електродинаміки у сильних полях та лабораторії інтегрованого моделювання механічних властивостей конструктивних матеріалів під дією опромінення Час проведення: 26.02.2025 Детальніше ... |