|
Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалівКомплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.
Опис Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014
|
Останні новини РізнеПостанова № 7 від 08.01.2025 "Про директора Інституту прикладної фізики Національної академії наук України" Детальніше ... Вітаємо лауреата Премії Верховної Ради України молодим ученим за 2024 рік! Детальніше ... Науковий семінар відділу квантової електродинаміки у сильних полях та лабораторії інтегрованого моделювання механічних властивостей конструктивних матеріалів під дією опромінення Час проведення: 11.06.2025 Детальніше ... |