Картинка
Новини Про Інститут Наукова діяльність Структура Аспірантура Закупівлі Контакти Конференції ІПФ Профспілка



Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів

Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.

Опис

 


Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014

Останні новини

Різне

Доступ до повнотекстових публікацій відомого міжнародного видавництва Springer Nature Детальніше ...

Щиро вітаємо директора Інституту прикладної фізики НАН України академіка НАН України Сторіжка Володимира Юхимовича з присвоєнням звання Почесного доктора Харківського національного університету ім. В.Н.Каразіна Детальніше ...

Семінари

Семінар з питань наукового і навчального приладобудування Час проведення: 04.03.2020 Детальніше ...