Картинка
Новини Про Інститут Головні результати Структура Аспірантура Закупівлі Контакти Конференції ІПФ Профспілка



Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів

Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.

Опис

 


Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014

Останні новини

Засідання вченої ради

02/10/2018 в 1500 відбудеться засідання Вченої ради Час проведення: 02.10.2018 Детальніше ...

Засідання спеціалізованої вченої ради К55.250.01

Засідання спеціалізованої вченої ради К 55.250.01 Час проведення: 11.10.2018 Детальніше ...

Семінари

Семінар лабораторного корпусу ІПФ НАН України “Розробка ядерно-фізичних методів дослідження структури і складу матеріалів та електростатичних прискорювачів” Час проведення: 27.09.2018 Детальніше ...