Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів

Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.