|
Комплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалівКомплекс обладнання для потреб іонних прискорювачів і іонно-променевої модифікації матеріалів: джерело з об'ємно-плазмової генерацією негативних іонів (безцезієве джерело); високодозний імплантер з масовою сепарацією іонів; стенд досліджень високоінтенсивних іонних джерел; установка високочастотного магнетронного розпилення; електронно-променева установка; високовакуумна установка для вимірювання параметрів газового польового джерела іонів голково-капілярного типу з охолоджуванням емітера до температури рідкого азоту; вакуумний стенд газового польового джерела іонів, що працює при кімнатній температурі.
Опис Відповідальний підрозділ: №11 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів Останнє оновлення інформації: 23.07.2014
|
Останні новини РізнеПостанова № 7 від 08.01.2025 "Про директора Інституту прикладної фізики Національної академії наук України" Детальніше ... Аспіранти та молоді науковці Інституту прикладної фізики НАН України взяли участь у X Літній школі ELI ERIC. Детальніше ... Співробітники Інституту прикладної фізики НАН Уукраїни беруть участь у 22-му тематичному воркшопі SPARC (Stored Particles Atomic physics Research Collaboration), що проходить 15–18 вересня 2025 року в конференц-центрі Karolos Papoulias Університету Яніни (Греція). Детальніше ... |