Найважливіші досягнення Інституту прикладної фізики НАН України (2017)Найважливіше досягнення 2017У розділ "Ядерна фізика, фізика високих енергій і фізика плазми"З метою отримання малорозмірних тривимірних структур для фабрикації елементів рентгенівської оптики в Інституті прикладної фізики НАН України розроблено установку протонно-променевої літографії з новою зондоформуючою системою на базі п'яти магнітних квадрупольних лінз в вигляді дублету і триплету інтегрованої конструкції. Визначено безабераційний растр сканування пучком з урахуванням нерівномірного розподіл пучка протонів у фазовому просторі і нелінійних ефектів формування пучка, які пов'язані з абераціями іонно-оптичної системи та розроблено нову трьох ступеневу електростатичну скануючу систему, яка узгоджена з триплетом магнітних квадрупольних лінз фінального фокусування пучка протонів.(А.Г. Пономарьов, В.А. Ребров, С.В. Колінько)Виявлений параметричний інтерференційний ефект при народженні e+e_ пари при розсіюванні фотона на ядрі у полі двох імпульсних світлових хвиль. Показано, що диференціальний переріз в інтерференційної області перевищує переріз поза нею на два порядки величини.(О.А. Лебедь., О.О. Левицька)У розділ "Радіаційне матеріалознавство, фізика конденсованого стану"Вивчено просторову самоорганізацію ансамблю точкових дефектів у α-цирконії, опроміненому швидкими нейтронами за допомогою швидкісної теорії при врахуванні еластичних властивостей середовища. Встановлено умови реорганізації нерівноважних вакансій, що продукуються внаслідок опромінення, у кластери. Досліджено розподіл пружніх полів при самоорганізації вакансійного ансамблю у чистому цирконії за умови зсувної і циклічної деформації та вивчено вплив опромінення на напружено-деформований стан цирконію.(Д.О. Харченко, В.О. Харченко, Ю.М. Овчаренко, О.М. Щокотова, О.О. Лисенко)В ІПФ НАН України для підвищення стійкості до високовольтних пробоїв конструкційних матеріалів прискорюючих структур, що використовуються в електрон-позитронному колайдері CLIC який проектується в CERN, проведено плазмову та іонно-променеву модифікацію поверхневих шарів цих матеріалів, та досліджено вплив такої модифікації на струм польової емісії та вірогідність високовольтних високовакуумних пробоїв. Показано, що плазмова та іонно-променева модифікація поверхні міді, що використовується в прискорюючих структурах, призводить до зростання напруги пробою від 5 до 35 %, в залежності від способу модифікації та зменшення передпробійного струму анод - катод. Перспективною технологією є плазмове покриття поверхні нітридом титану та додаткове опромінення поверхні пучком прискорених іонів аргону. Така модифікація поверхні дозволяє підвищити напругу високовольтного пробою до 35 відсотків в порівнянні з не модифікованою. (В.А. Батурін, О.Ю. Карпенко, С.О. Пустовойтов)У розділ “Радіохімія, рудоутворення та мінералогія”Вперше встановлені точні межі порівняльного ізотопного складу свинцю, сильно збагаченого на 208Pb, монацитів корінних рудопроявів (пегматоїдні граніти) і розсипищ Побужжя, відповідно – (98,20±0.44)% вагових та (97,65±0.06)% вагових, що суттєво підвищує реальну цінність ресурсів даного типу ізотопної сировини в Україні.(А.А. Вальтер, А.І. Писанський) |
Останні новини РізнеІПФ НАН України отримав доступ до БВ Web of science за кошти держбюджету України Детальніше ... IНСТИТУТ ПРИКЛАДНОI ФIЗИКИ НАЦIОНАЛЬНОI АКАДЕМII НАУК УКРАIНИ ОГОЛОШУЄ КОНКУРСНИЙ ПРИЙОМ ДО АСПIРАНТУРИ на 2019 навчальний рік Детальніше ... |