Комплекс оборудования для нужд ионных ускорителей и ионно-лучевой модификации материалов

Комплекс оборудования для нужд ионных ускорителей и ионно-лучевой модификации материалов: источник с объемно-плазмовой генерацией отрицательных ионов (безцезиевый источник); высокодозный имплантер с массовой сепарацией ионов; стенд исследований высокоинтенсивных ионных источников; установка високочастотного магнетронного распыления; електронно-лучевая установка; высоковакуумная установка для измерения параметров газового полевого источника ионов иголочно-капилярного типа с охлаждением эммитера до температуры жидкого азота; вакуумный стенд газового полевого источника ионов, который работает при комнатной температуре.