Картинка
Новини Про Інститут Наукова діяльність Структура Аспірантура Закупівлі Контакти Конференції ІПФ Профспілка

Загальна інформація Склад
 

№80 - лабораторія прискорювачів прямої дії та іонної імплантації і модифікації реакторних матеріалів

Завідувач лабораторії: к.ф.-м.н., с.н.с. Батурін В.А.

До 31 березня 2015 р. лабораторія входила в склад відділу фізики пучків заряджених частинок №10. З 01 квітня 2015 р. виокремлена лабораторія.

 

lab 11

Співробітники лабораторії: с.н.с. Дуванов С.М., м.н.с. Пустовойтов С.О., с.н.с. Нагорний А.Г., м.н.с. Карпенко А.Ю, с.н.с. Луніка М.М., зав. лаб. Батурін В.А.,пров. інж. Шумило В.П., н.с. Ерьомін С.О., с.н.с. Литвинов П.О.,м.н.с. Нагорний В.А.,гол. інж. Голубовський Б.Г., с.н.с. Шимко А.І.

Напрямки досліджень

  • Дослідження процесів генерації, формування та транспортування потужних пучків позитивних та негативних іонів.
  • Розробка потужних джерел газових і металевих іонів для застосування у високоенергетичних, медичних та технологічних іонних прискорювачах, а також в радіаційних технологіях.
  • Проведення імітаційних експериментів на пучках іонів металів та газів в енергетичному діапазоні 20 ÷ 500 кеВ.
  • Дослідження взаємодії потужних пучків іонів і електронів з речовиною з ціллю модифікації приповерхневих шарів шляхом створення захисних та зміцнюючих покриттів в конструкційних матеріалах.
  • Синтез тонких плівок та покриттів з використанням пучково-плазмових технологій.

Основні досягнення

2017

В ІПФ НАН України для підвищення стійкості до високовольтних пробоїв конструкційних матеріалів прискорюючих структур, що використовуються в електрон-позитронному колайдері CLIC який проектується в CERN, проведено плазмову та іонно-променеву модифікацію поверхневих шарів цих матеріалів, та досліджено вплив такої модифікації на струм польової емісії та вірогідність високовольтних високовакуумних  пробоїв.

Показано, що плазмова та іонно-променева модифікація поверхні міді, що використовується в прискорюючих структурах, призводить до зростання напруги пробою від 5 до 35 %, в залежності від способу модифікації та зменшення передпробійного струму анод - катод. Перспективною технологією є плазмове покриття поверхні нітридом титану та додаткове опромінення поверхні пучком прискорених іонів аргону. Така модифікація поверхні дозволяє підвищити напругу високовольтного пробою до 35 відсотків в порівнянні з не модифікованою.

(В.А. Батурін, О.Ю. Карпенко, С.О. Пустовойтов)

2016

Створено інжектор одно та двозарядних іонів металів (Fe2+ , Zr2+) для проведення імітаційних досліджень радіаційної стійкості матеріалів реакторної техніки. Проведено серію експериментів з опромінення цирконієвих сплавів прискореними іонами Ar2+, Fe2+ та Zr2+ дозами 10÷100 зміщень на атом, в діапазоні температур мішені 200 ÷ 500 оС, з метою дослідження умов формування радіаційних дефектів.

(В.А. Батурін, С.О. Єрьомін, О.Ю Карпенко, П.О. Литвинов, О.С. Пустовойтов)

2015

Створено установку для проведення імітаційних досліджень радіаційної стійкості матеріалів реакторної техніки з використанням іонів металів ( Fe, Cr, Ni, Zr та інші) прискорених до енергії 20 ÷ 450 кеВ. Спільно з ННЦ ХФТІ розпочаті дослідження формування радіаційних дефектів в конструкційних реакторних матеріалах. 

(В.А. Батурін, О.Ю Карпенко, О.С. Пустовойтов, П.О. Литвинов)

Останні новини

Різне

ІПФ НАН України отримав доступ до БВ Web of science за кошти держбюджету України Детальніше ...